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原子層沉積系統(ALD)
依顧客需求可客製化原子層沉積系統。
產品說明
Oxides: Al2O3, TiO2, HfO2, Ta2O5
Nitrides: TiN, TaN
Metals: Pt, Ru, Co
Wafer sizes: 1, 2, 4, 6, 8 inch
客製化ALD系統,請直接與洪先生聯絡。
聯絡資訊:hong@yfq-tech.com.tw 03-4582486
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