產品介紹

原子層沉積系統(ALD)

依顧客需求可客製化原子層沉積系統。

產品說明

Oxides: Al2O3, TiO2, HfO2, Ta2O5
Nitrides: TiN, TaN
Metals: Pt, Ru, Co

Wafer sizes: 1, 2, 4, 6, 8 inch


客製化ALD系統,請直接與洪先生聯絡。
聯絡資訊:hong@yfq-tech.com.tw   03-4582486